蒸鍍是指在一定的真空條件下加熱被蒸鍍材料,使其熔化(或升華)并形成原子、分子或原子團組成的蒸汽,凝結(jié)在基材表面成膜。蒸鍍角度是指蒸發(fā)束與基片之間的夾角,蒸鍍角度會影響蒸鍍層的厚度。
蒸鍍角度大小分類傾斜蒸鍍法基本上是把取向劑,如SiO2等氧化物或Au、Pt等金屬,從對基片傾斜的方向蒸鍍到基片上,鍍層厚為101~102nm。
一次蒸鍍法如下圖示,當蒸鍍的角度很小,即5°≤Θ≤20°時,液晶分子作傾斜取向,液晶分子長軸沿著蒸鍍射束方向排列,如圖(a)所示。當蒸鍍角較大,即20°≤≤45°時,液晶分子成為傾角幾乎為零的平面取向,即形成分子長軸的方位同蒸射束方向垂直的分子排列,如圖b)所示。
用傾斜蒸鍍法所以能實現(xiàn)特定的分子排列,是因為經(jīng)過傾斜蒸鍍以后,在基片表面上形成的波紋表面與液晶分子相互作用的結(jié)果。
二次蒸鍍法是首先對基片表面以很小的角度(Θ=50)傾率蒸鍍上一層SiO2等氧化物,然后將基片面旋轉(zhuǎn)90°后,再以較大的角度(Θ=30°),在第一蒸鍍層上形成第二蒸鍍層。
此法的優(yōu)點是液晶分子能在這種二次蒸鍍的基片面上形成小傾斜角的傾斜平行取向,還可通過改變蒸鍍層厚度來控制傾斜角。這些優(yōu)點是一次蒸鍍法所不具備的。1
影響因素TN方式因用對置電極施加90°的扭曲,所以液晶分子的扭曲穩(wěn)定地存在于左右兩側(cè)。為使其穩(wěn)定地僅向單側(cè)扭曲,必須使液晶分子具有1°-2°的頂傾角。若無預傾斜,則將產(chǎn)生反轉(zhuǎn)疇,出現(xiàn)明顯的顯示不均,使顯示質(zhì)量下降。
LCD初期被實用化的取向膜是將無機材料-SiO2斜蒸鍍而得的。液晶分子的取向形態(tài)因蒸鍍角度而變,當蒸鍍角度在60°附近和80°附近時,液晶分子的取向分別在與蒸鍍方向相垂直和乎行的方向。在60°附近預傾角為0°;而在70°-85°,預傾角為5°-35°。斜蒸鍍法在小面積時,蒸鍍角度也不變,但在大面積盒時因受蒸鍍的影響,很難將盒面內(nèi)的預傾角均勻一致。從大面積和批量生產(chǎn)問題考慮,必須開發(fā)新的取向膜。
本詞條內(nèi)容貢獻者為:
楊明 - 副教授 - 西南大學